发明名称 |
一种透明光学元件的快速激光预处理方法及装置 |
摘要 |
本发明公开了一种透明光学元件的快速激光预处理方法及装置,具体是相对透明光学元件的表面和背面各设置一系列激光反射装置,预处理激光光束入射到透明光学元件表面并穿透待处理样品后从待处理样品背面出射,出射后的激光光束经后反射装置反射后再次照射到被处理样品背面上并穿透待处理样品后从待处理样品表面出射;如此类推,预处理激光光束经前反射装置和后反射装置的相互反射作用,使预处理激光光束多次经过透明光学元件,对元件的表面、背面和内部均进行并行的多次辐照预处理,从而大幅度提高透明光学元件激光预处理速度。本发明可以用于光学表面及亚表面缺陷修复、体内特性激光处理等多个领域,特别适用于对大口径透明光学元件进行快速激光预处理以提高其抗激光破坏能力。 |
申请公布号 |
CN103008879A |
申请公布日期 |
2013.04.03 |
申请号 |
CN201210547351.5 |
申请日期 |
2012.12.17 |
申请人 |
合肥知常光电科技有限公司 |
发明人 |
吴周令;陈坚;吴令奇 |
分类号 |
B23K26/00(2006.01)I;B23K26/06(2006.01)I;B23K26/42(2006.01)I |
主分类号 |
B23K26/00(2006.01)I |
代理机构 |
合肥天明专利事务所 34115 |
代理人 |
金凯 |
主权项 |
一种透明光学元件的快速激光预处理方法,其特征在于:包括以下步骤:(1)、首先相对透明光学元件的表面设置一组前反射装置,相对透明光学元件的背面设置一组后反射装置;(2)、将预处理激光光束入射到透明光学元件表面的处理点1进行辐照预处理,预处理激光光束穿透待处理样品后从待处理样品背面的处理点1’出射,出射后的激光光束经后反射装置反射后再次照射到被处理样品背面上的处理点2’,并穿透待处理样品后从待处理样品表面的处理点2出射,出射后的激光光束经前反射装置反射后再次照射到被处理样品表面上的处理点3;如此类推,预处理激光光束经前反射装置和后反射装置的相互反射作用,多次经过透明光学元件,对透明光学元件表面的N个处理点、背面的N个处理点和透明光学元件内部相应的两个处理点之间预处理光束经过的区域均进行了辐照预处理,其中,N≥1。 |
地址 |
230031 安徽省合肥市高新区望江西路800号动漫基地C4楼2层208室 |