发明名称 光刻胶剥离剂废液回收系统及其方法
摘要 本发明公开了一种光刻胶剥离剂废液回收系统及其方法,该系统包括回收装置与废液处理装置,废液处理装置包括蒸馏模块与冷凝模块。回收装置接收且处理经过光刻胶剥离工艺中所产生的第一废液并产生第二废液与第一回收液。蒸馏模块接收且加热第二废液,而使得第二废液中的剥离剂混合物与水部份蒸发。冷凝模块接收且冷凝被部份蒸发的剥离剂混合物与水,而使得被部份蒸发的剥离剂混合物与水液化成第二回收液。其中,回收装置可进一步处理第二回收液,以有效地回收再利用第二回收液中的剥离剂混合物。
申请公布号 CN102219272B 申请公布日期 2013.04.03
申请号 CN201110130976.7 申请日期 2011.05.16
申请人 友达光电股份有限公司 发明人 廖庭宽
分类号 C02F1/04(2006.01)I;B01D5/00(2006.01)I 主分类号 C02F1/04(2006.01)I
代理机构 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人 梁挥;鲍俊萍
主权项 一种光刻胶剥离剂废液回收系统,其特征在于,包括:一回收装置,接收且处理经过一光刻胶剥离工艺中所产生的一第一废液,分离第一废液中的固形物、剥离剂混合物与水,并产生一第二废液与一第一回收液,其中该第一回收液包含一剥离剂混合物与水,且该第二废液与该第一废液都至少包括一固形物、该剥离剂混合物与水;以及一废液处理装置,包括:一蒸馏模块,接收且加热该第二废液,使得该第二废液中的该剥离剂混合物与水部 分蒸发;以及一冷凝模块,接收且冷凝被部 分蒸发的该剥离剂混合物与水,使得被部 分蒸发的该剥离剂混合物与水液化成一第二回收液,其中,该第二回收液至少包含该剥离剂混合物与水。
地址 中国台湾新竹科学工业园区新竹市力行二路1号