发明名称 |
一种Ho<sup>3+</sup>/Pr<sup>3+</sup>共掺杂氟化钇锂单晶体及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开了一种Ho3+/Pr3+共掺杂氟化钇锂单晶体及其制备方法,该氟化钇锂单晶体是一种稀土离子Ho3+/Pr3+共掺杂的单晶体,其分子式为LiY(1-x-y)HoxPryF4,其中0.004≤x≤0.08,0.0002≤y≤0.01;该氟化钇锂单晶体2.9µm的荧光发射效率高,在中红外的透过率高,比玻璃态材料的热学、机械、化学稳定性优异,具有声子能量低、300~5500nm宽波段光学透过性高、色心形成量少、热透镜效应低等特点,更加容易加工,更适合于在激光器件中的应用;本发明制备方法采用密封坩锅下降法技术,操作简单,对原料进行高温氟化处理,并采用绝水、绝氧的密封环境,使得晶体生长过程中与空气和水汽隔绝,得到几乎不含-OH离子与氧化物的高质量的Ho3+/Pr3+共掺杂LiYF4单晶体。 |
申请公布号 |
CN103014854A |
申请公布日期 |
2013.04.03 |
申请号 |
CN201210504257.1 |
申请日期 |
2012.11.28 |
申请人 |
宁波大学 |
发明人 |
夏海平;彭江涛;汪沛渊;张约品 |
分类号 |
C30B29/12(2006.01)I;C30B11/00(2006.01)I |
主分类号 |
C30B29/12(2006.01)I |
代理机构 |
宁波奥圣专利代理事务所(普通合伙) 33226 |
代理人 |
程晓明 |
主权项 |
一种Ho3+/Pr3+共掺杂氟化钇锂单晶体,其特征在于该氟化钇锂单晶体是一种稀土离子Ho3+/Pr3+共掺杂的单晶体,其分子式为LiY(1‑x‑y)HoxPryF4,其中0.004≤x≤0.08,0.0002≤y≤0.01。 |
地址 |
315211 浙江省宁波市江北区风华路818号 |