发明名称 |
VARIABLE RELUCTANCE DEVICE, STAGE APPARATUS, LITHOGRAPHIC APPARATUS AND DEVICE MANUFACTURING METHOD. |
摘要 |
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申请公布号 |
NL2007501(A) |
申请公布日期 |
2013.04.02 |
申请号 |
NL20112007501 |
申请日期 |
2011.09.29 |
申请人 |
ASML NETHERLANDS B.V. |
发明人 |
HOL SVEN ANTOIN JOHAN;AANGENENT WOUTER;CLIJSEN GEORGE;AKKERMANS JOHANNES;VEER JACOB KORNELIS;BOEIJ JEROEN;VERMEULEN JOHANNES |
分类号 |
G03F7/20;G03F9/00;H01L21/68 |
主分类号 |
G03F7/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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