发明名称 反向器制造方法及反向器
摘要 为了设置能够容易制造之增强型一空乏型(E/D)反向器,在本发明中,反向器系由氧化物半导体所组成,其中通道层包括选自In(铟)、Ga(镓)、及Zn(锌)的至少其中之一元素,并形成在同一基板上,反向器是具有复数薄膜电晶体之E/D反向器,反向器的制造方法之特征为包含以下步骤:形成第一电晶体和第二电晶体,第一和第二电晶体的通道层之厚度彼此不同;及对第一和第二电晶体之通道层的至少其中之一执行热处理。
申请公布号 TWI392060 申请公布日期 2013.04.01
申请号 TW097117638 申请日期 2008.05.14
申请人 佳能股份有限公司 日本 发明人 大藤将人;安部胜美;林享;佐野政史;云见日出也
分类号 H01L21/8238 主分类号 H01L21/8238
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本