发明名称 无电解镀金浴、无电解镀金方法及电子零件
摘要 含有水溶性金化合物、配位剂、醛化合物、及以R1-NH-C2H4-NH-R2或R3-(CH2-NH-C2H4-NH-CH2)n-R4(R1~R4为-OH、-CH3、-CH2OH、-C2H4OH、-CH2N(CH3)2、-CH2NH(CH2OH)、-CH2NH(C2H4OH)、-C2H4NH(CH2OH)、-C2H4NH(C2H4OH)、-CH2N(CH2OH)2、-CH2N(C2H4OH)2、-C2H4N(CH2OH)2或-C2H4N(C2H4OH)2,n为1~4之整数)所表示之胺化合物之无电解镀金浴。;施以电镀处理之基底金属不受侵蚀,可以安定之析出速度,进行无电解镀金处理,因为析出速度快,为取代、还原型,所以可以1液使电镀被膜厚膜化,被膜颜色不劣化,保持金特有的柠檬黄色,外观亦良好。
申请公布号 TWI391523 申请公布日期 2013.04.01
申请号 TW096146297 申请日期 2007.12.05
申请人 上村工业股份有限公司 日本 发明人 木曾雅之;西条义司;上玉利彻
分类号 C23C18/42 主分类号 C23C18/42
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本