发明名称 处理室及处理装置
摘要 【发明课题】;本发明提供一种不用缩小处理室内部的尺寸,可抑制外形尺寸的扩大,并且可达到减轻重量的处理室及处理装置。;【课题解决手段】;真空室10的本体10a的长向侧壁61a、61b的壁厚L1,是形成比侧壁62a、62b的壁厚L2还薄,盖体10b的上部侧壁63a、63b的壁厚是形成比上部侧壁64a、64b的壁厚还薄。在使用时,为了要增强侧壁61a、61b及上部侧壁64a、64b的强度,增强板90a~90d是形成为可从外部加装成装脱自如。
申请公布号 TWI391724 申请公布日期 2013.04.01
申请号 TW094134347 申请日期 2005.09.30
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 天野健次
分类号 G02F1/13;C03C15/00 主分类号 G02F1/13
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本
您可能感兴趣的专利