| 摘要 |
本发明系有关于一种可以制作出具有透明基板、位于上述透明基板上的遮光部、透射部及半透射部图案之灰度光罩的灰度光罩基板，其中,至少在上述透明基板上层积半透射膜，在上述半透射膜上层积遮光膜，反射膜则选择性地进行层积，上述半透射膜含钽(Ta)并由上述钽(Ta)上添加了铝(Al)、锌(Zn)、钴(Co)、钨(W)、钼(Mo)、钒(V)、钯(Pd)、钛(Ti)、铂(Pt)、锰(Mn)、铁(Fe)、镍(Ni)、镉(Cd)、锆(Zr)、镁(Mg)、锂(Li)、硒(Se)、铜(Cu)、钇(Y)、硫(S)、铟(In)、锡(Sn)、硼(B)及铍(Be)中一种以上金属的钽合金(Ta Alloy)或包括碳(C)、氧(O)、氮(N)、氟(F)、氯(Cl)及氢(H)中一种以上半导体元素的钽(Ta)化合物所组成。按照上述方法制成的本发明灰度光罩基板可以稳定地进行湿式蚀刻制程并容易调整蚀刻速度，对于铬蚀刻液或清洗液之类的化学药品具有卓越的耐化学性。 |
