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发明名称
全像,产生方法,及曝光设备
摘要
本发明提供了一种电脑所产生的全像,藉由将一相位分布提供给入射光之波前,而在一预定平面上形成一光强度分布,该全像包含:复数个非等向性细胞,每一非等向性细胞包含被配置成改变该入射光的偏振状态之一非等向性介质;以及复数个等向性细胞,每一等向性细胞包含被配置成不改变该入射光的偏振状态之一等向性介质,其中沿着该入射光的第一方向之一线性偏振光成分在该预定平面上形成一第一光强度分布,且沿着垂直于该入射光的第一方向之第二方向之一线性偏振光成分在该预定平面上形成不同于该第一光强度分布之一第二光强度分布。
申请公布号
TWI391989
申请公布日期
2013.04.01
申请号
TW097150077
申请日期
2008.12.22
申请人
佳能股份有限公司 日本
发明人
松原功
分类号
H01L21/027;G03F7/20;G03H1/08
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址
日本
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