发明名称 显像处理方法及显像处理装置
摘要 本发明的课题是促使被供给至基板的表面而盛上之显像液的盛液的下摆部活化,而得以谋求解析性的提升及显像处理效率的提升之显像处理方法及显像处理装置。;其解决手段是一边使水平保持晶圆(W)的旋转夹头(40)绕着铅直轴旋转,一边从晶圆的中心部上方由显像喷嘴(52)来供给显像液而盛上的同时,由N2喷嘴(53)来朝所被供给之显像液的盛液的下摆部供给比处理时的晶圆温度还要高温的N2气体,使显像喷嘴与N2喷嘴从晶圆的中心部往晶圆的外周缘,于径方向同时且使N2喷嘴追随显像喷嘴移动来促使显像液的盛液的下摆部活化而进行显像处理。
申请公布号 TWI391991 申请公布日期 2013.04.01
申请号 TW099102996 申请日期 2010.02.02
申请人 东京威力科创股份有限公司 日本 发明人 山本太郎;吉原孝介;吉田勇一
分类号 H01L21/027;G03F7/30 主分类号 H01L21/027
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本