光阻覆盖膜形成材料、光阻图案形成方法、以及电子元件及其制造方法

摘要

本发明提供一种材料，包括：具有至少一硷可溶性基团且系藉由下述通式(1)所代表之含矽聚合物；以及能够溶解此含矽聚合物之有机溶剂。;(SiO4/2)a(R1tSiO(4－t)/2)b(O1/2R2)c通式(1);其中R1代表单价有机基团、氢原子及羟基中至少一者，R2代表单价有机基团及氢原子中至少一者(其中R1及R2各自可出现二次或更多次，以及R1及R2中至少一者含有硷可溶性基团)，“t”代表整数1至3，“a”、“b”及“c”代表其单元的相对比例(其中a＞＝0、b＞＝0及c＞＝0，以及“a”、“b”及“c”不同时为0)，以及(R1tSiO(4－t)/2)b可出现二次或更多次。