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发明名称
半导体记忆装置及其制造方法
摘要
本发明之半导体记忆装置具备第一记忆胞电晶体,其系包含:通道绝缘膜,其系设置于半导体基板上;浮游电极,其系设置于前述通道绝缘膜上;闸极间绝缘膜,其系设置于前述浮游电极上;及控制电极,其系设置于前述闸极间绝缘膜上;前述浮游电极包含:第一浮游电极,其系设置于前述通道绝缘膜上;及第二浮游电极,其系设置于前述第一浮游电极一方之端部上,具有比前述第一浮游电极之宽度窄之宽度;前述控制电极之布线方向之剖面为L字形。
申请公布号
TWI392089
申请公布日期
2013.04.01
申请号
TW097106877
申请日期
2008.02.27
申请人
东芝股份有限公司 日本
发明人
渡边寿治
分类号
H01L27/115;H01L21/8247
主分类号
H01L27/115
代理机构
代理人
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址
日本
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