| 摘要 |
本发明旨在提供一种液体处理装置及液体处理方法，即使在使用藉由氟酸系处理液处理被处理基板后以有机溶剂使其乾燥之方法之情形下亦可防止污点产生于该被处理基板。;其中液体处理装置1包含：壳体5；基板固持机构20，用以固持晶圆(被处理基板)W；处理液供给机构30，用以供给处理液；排液杯12，用以承接处理液；及排液管13，朝外方排出处理液。处理液供给机构30包含：第一药液供给机构，用以供给氟酸系处理液；及乾燥液供给机构43，供给用以乾燥晶圆W之有机溶剂。控制部50在藉由第一药液供给机构供给氟酸系处理液后藉由乾燥液供给机构43供给有机溶剂，且在藉由乾燥液供给机构43供给有机溶剂前藉由清洗机构10去除壳体5内之硷成分。 |
