| 摘要 |
本发明提供一种基板处理装置以及基板处理方法，能够对基板面内更均匀地实施处理，并能够谋求处理能力之提高。基板处理装置(1)具有：液体喷嘴(16)，其用于在一边水平搬送基板(2)时一边在其上表面形成显影液之液层(X)；以及除去机构，其用于除去形成于基板(2)上之液层(X)。该除去机构包括：气刀(18)，其设置成横跨基板(2)，而朝向该基板(2)之上表面喷出空气；以及消波构件(20)，其配置在比该气刀(18)之空气喷出位置更邻接于基板(2)之后端侧之位置上，抑制喷出上述空气时所产生之液层(X)之波动。 |
