| 发明名称 |
光阻组成物，光阻图型之形成方法，新颖化合物及酸产生剂 |
| 摘要 |
一种通式(I)所表示之化合物；及通式(b1-1)所表示之化合物(式中，Q1为二价之键结基或单键；Y1为可具有取代基之伸烷基或为可具有取代基之氟化伸烷基；X为可具有取代基之碳数3~30之环式基，该环结构中具有-SO2-键结。M+为硷金属离子。A+为有机阳离子);[化1];…(I);…(b1-1) |
| 申请公布号 |
TWI391781 |
申请公布日期 |
2013.04.01 |
| 申请号 |
TW097142516 |
申请日期 |
2008.11.04 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司 日本 |
发明人 |
濑下武广;内海义之;川上晃也;羽田英夫;清水宏明;中村刚 |
| 分类号 |
G03F7/004;H01L21/027;C07D333/76;C07D327/04;C07D333/46;C07D335/02;C07C381/12 |
主分类号 |
G03F7/004 |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼 |
| 主权项 |
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| 地址 |
日本 |
