发明名称 由长晶基底的移除所制造之共振腔III族氮化物发光装置
摘要 一种半导体发光装置包括一n型区、一p型区、及设于该n型区与该p型区之间之发光区。该n型区、该p型区、及该发光区形成一腔,该腔具有一顶表面与一底表面。该腔之顶表面与底表面皆可具有一粗糙表面。例如,该表面可具有由复数个波谷分隔之复数个波峰。在一些实施例中,藉由将一蚀刻终止层并合于该装置,接着利用一终止于该蚀刻终止层上之制程将该装置之诸层薄化,该腔之厚度即得以保持不变。
申请公布号 TWI392176 申请公布日期 2013.04.01
申请号 TW094117898 申请日期 2005.05.31
申请人 露明光学公司 美国 发明人 约翰 爱普乐;麦克R 卡米司;强那森J 瓦尔 二世
分类号 H01S3/0941 主分类号 H01S3/0941
代理机构 代理人 陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼
主权项
地址 美国