发明名称 |
由长晶基底的移除所制造之共振腔III族氮化物发光装置 |
摘要 |
一种半导体发光装置包括一n型区、一p型区、及设于该n型区与该p型区之间之发光区。该n型区、该p型区、及该发光区形成一腔,该腔具有一顶表面与一底表面。该腔之顶表面与底表面皆可具有一粗糙表面。例如,该表面可具有由复数个波谷分隔之复数个波峰。在一些实施例中,藉由将一蚀刻终止层并合于该装置,接着利用一终止于该蚀刻终止层上之制程将该装置之诸层薄化,该腔之厚度即得以保持不变。 |
申请公布号 |
TWI392176 |
申请公布日期 |
2013.04.01 |
申请号 |
TW094117898 |
申请日期 |
2005.05.31 |
申请人 |
露明光学公司 美国 |
发明人 |
约翰 爱普乐;麦克R 卡米司;强那森J 瓦尔 二世 |
分类号 |
H01S3/0941 |
主分类号 |
H01S3/0941 |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 台北市松山区敦化北路201号7楼 |
主权项 |
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地址 |
美国 |