发明名称 Metal-Aluminum Alloy Films From Metal PCAI Precursors And Aluminum Precursors
摘要 Described are methods for deposition of metal-aluminum films using metal PCAI precursors and aluminum precursors. Such metal-aluminum films can include metal aluminum carbide, metal aluminum nitride and metal aluminum carbonitride films. The aluminum precursors may be alkyl aluminum precursors or amine alanes.
申请公布号 US2013078455(A1) 申请公布日期 2013.03.28
申请号 US201213617082 申请日期 2012.09.14
申请人 THOMPSON DAVID;ANTHIS JEFFREY W.;APPLIED MATERIALS, INC. 发明人 THOMPSON DAVID;ANTHIS JEFFREY W.
分类号 C23C16/20;B32B15/20;C22C21/00;C23C16/32;C23C16/34;C23C16/36 主分类号 C23C16/20
代理机构 代理人
主权项
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