发明名称 |
Metal-Aluminum Alloy Films From Metal PCAI Precursors And Aluminum Precursors |
摘要 |
Described are methods for deposition of metal-aluminum films using metal PCAI precursors and aluminum precursors. Such metal-aluminum films can include metal aluminum carbide, metal aluminum nitride and metal aluminum carbonitride films. The aluminum precursors may be alkyl aluminum precursors or amine alanes.
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申请公布号 |
US2013078455(A1) |
申请公布日期 |
2013.03.28 |
申请号 |
US201213617082 |
申请日期 |
2012.09.14 |
申请人 |
THOMPSON DAVID;ANTHIS JEFFREY W.;APPLIED MATERIALS, INC. |
发明人 |
THOMPSON DAVID;ANTHIS JEFFREY W. |
分类号 |
C23C16/20;B32B15/20;C22C21/00;C23C16/32;C23C16/34;C23C16/36 |
主分类号 |
C23C16/20 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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