Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage

摘要

Eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage hat eine Projektionslichtquelle (LS) und eine Heizlichtquelle (100) für die Erzeugung von Heizlicht (HL), das zumindest teilweise von einem optischen Element (M2) absorbiert wird. Eine Ausleuchtungsoptik (102) richtet das Heizlicht (HL) so auf das optische Element (M2), dass auf einer optischen Fläche (104) des optischen Elements (M2) das Heizlicht (HL) eine vorab festgelegte Intensitätsverteilung (108) hat. Erfindungsgemäß enthält die Ausleuchtungsoptik (102) ein als diffraktives optisches Element (118; 118a, 118b; 218) oder als refraktives Freiformelement (318; 418) ausgebildetes Ablenkelement, welches das darauf auftreffende Heizlicht (HL) gleichzeitig in unterschiedliche Richtung lenkt.