发明名称 Vakuum-Elektronenstrahlanordnung und Verfahren zur Herstellung einer Elektrode dafür
摘要 Zur Verminderung der Sekundärelektronenemission in einer Vakuum-Elektronenstrahlanordnung, insbesondere einer Wanderfeldröhre (TWT), wird eine Oberflächenstruktur mit einer offenporigen Oberflächenschicht (OS) und ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Oberflächenstruktur beschrieben.
申请公布号 DE102011053949(A1) 申请公布日期 2013.03.28
申请号 DE20111053949 申请日期 2011.09.27
申请人 THALES AIR SYSTEMS & ELECTRON DEVICES GMBH 发明人 HAUBNER, MANFRED;DIETRICH, CHRISTOF;KUPIDURA, DAWID;ROGGENBUCK, MARTIN
分类号 H01J1/02;H01J9/02;H01J23/027;H01J25/38;H01J43/02;H01J61/04 主分类号 H01J1/02
代理机构 代理人
主权项
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