Verfahren zur Kennzeichnung eines Substrates

摘要

Verfahren zur Kennzeichnung eines Substrates, bei dem mindestens ein lumineszenter Farbstoff in mindestens einer transparenten oxidischen Markerschicht oder in mindestens einer oxidischen Funktionsschicht auf einer Oberfläche des Substrats oder auf einer auf der Oberfläche befindlichen Schicht als ein erstes Identifizierungsmerkmal abgeschieden wird, wobei die Abscheidung mindestens einer der Markerschichten oder Funktionsschichten mittels chemischer Gasphasenabscheidung unter Verwendung eines Plasmas erfolgt, wobei als ein zweites Identifikationsmerkmal eine Rauhigkeit der Markerschicht oder Funktionsschicht eingestellt wird, dadurch gekennzeichnet, dass die Rauhigkeit mittels Variation von Parameter der chemischen Gasphasenabscheidung zwischen 1 nm und 25 nm eingestellt wird, wobei als Parameter: – eine Dosis eines Precursors zur Herstellung der oxidischen Schicht variiert wird, der dem Plasma oder einem Arbeitsgas zugeführt wird, aus dem das Plasma gebildet wird, – eine Tröpfchengröße eines Precursors eingestellt wird, der dem Arbeitsgas oder dem Plasma als Aerosol zugeführt wird oder der durch Einsprühen in einen Arbeitsgasstrom mit dem Arbeitsgas...