发明名称 正型光致抗蚀剂剥离剂组合物
摘要 本发明提供了一种正型光致抗蚀剂剥离剂组合物,它包括:a)1-20重量份的N,N-二乙基羟胺;b)1-70重量份的二甘醇单烷基醚;c)1-5重量份的[式1]所示的化合物;d)1-5重量份的[式2]所示的化合物;[式1],其中R’为氢,或具有1至4个碳原子的烷基,[式2]。本发明正型光致抗蚀剂剥离剂组合物不腐蚀基板、且能有效地除去光致抗蚀剂膜,因此具有很强的实用性。
申请公布号 CN102998915A 申请公布日期 2013.03.27
申请号 CN201210246206.3 申请日期 2012.07.17
申请人 张峰 发明人 张峰
分类号 G03F7/42(2006.01)I;C07D295/185(2006.01)I;C07D211/16(2006.01)I 主分类号 G03F7/42(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 1.一种正型光致抗蚀剂剥离剂组合物,其特征在于包括:a)1-20重量份的N,N-二乙基羟基胺;b)1-70重量份的二甘醇单烷基醚;c)1-5重量份的[式1]所示的化合物;d)1-5重量份的[式2]所示的化合物;<img file="FSA00000749877500011.GIF" wi="607" he="348" />[式1],其中R’为氢,或具有1至4个碳原子的烷基,<img file="FSA00000749877500012.GIF" wi="478" he="414" />[式2]。
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