| 发明名称 | 阵列基板及其制作方法 | ||
| 摘要 | 本发明涉及显示技术领域，公开了一种阵列基板制作方法，包括步骤：在基板上形成包括薄膜晶体管结构及钝化层的图形，以确定基板上的多个像素单元；在所述像素单元的像素区域形成半反半透层及彩膜的图形，使所述彩膜位于所述半反半透层之上；在所述像素单元的像素区域形成有机发光二极管，使半反半透层和彩膜位于所述有机发光二极管和所述薄膜晶体管结构之间。还公开了一种阵列基板。本发明的阵列基板制作方法实现了结构，制作工艺简单的微腔结构，且节省了工艺流程。 | ||
| 申请公布号 | CN103000580A | 申请公布日期 | 2013.03.27 |
| 申请号 | CN201210537767.9 | 申请日期 | 2012.12.12 |
| 申请人 | 京东方科技集团股份有限公司 | 发明人 | 宋泳锡;刘圣烈;崔承镇;金熙哲 |
| 分类号 | H01L21/77(2006.01)I;H01L27/32(2006.01)I;H01L51/52(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/77(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人 | 王莹 |
| 主权项 | 一种阵列基板制作方法，其特征在于，包括步骤：在基板上形成包括薄膜晶体管结构及钝化层的图形，以确定基板上的多个像素单元；在所述像素单元的像素区域形成半反半透层及彩膜的图形，使所述彩膜位于所述半反半透层之上；在所述像素单元的像素区域形成有机发光二极管，使半反半透层和彩膜位于所述有机发光二极管和所述薄膜晶体管结构之间。 | ||
| 地址 | 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 | ||