发明名称 一种阵列基板及其制作方法、显示装置
摘要 本发明公开了一种阵列基板及其制作方法、显示装置,用以分散液晶分子表面的直流残留,从而消除因直流残留引起的图像残像的现象。本发明提供的阵列基板包括:基板、基板上的像素电极、像素电极上方与像素电极相绝缘的公共电极,公共电极上的取向膜,还包括:与至少一个像素电极电性相连的至少一个用于分散液晶分子表面残留电荷的分流电极,所述分流电极位于所述取向膜不与液晶分子相接触的一侧。
申请公布号 CN102998856A 申请公布日期 2013.03.27
申请号 CN201210469712.9 申请日期 2012.11.19
申请人 京东方科技集团股份有限公司;合肥京东方光电科技有限公司 发明人 操彬彬;白明基;黄寅虎;徐向阳
分类号 G02F1/1343(2006.01)I;G02F1/1337(2006.01)I;G02F1/1333(2006.01)I 主分类号 G02F1/1343(2006.01)I
代理机构 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人 黄志华
主权项 一种阵列基板,包括:基板、基板上的第一电极、第一电极上方与第一电极相绝缘的第二电极,第二电极上的取向膜,其特征在于,还包括:与至少一个第一电极电性相连的至少一个用于分散液晶分子表面残留电荷的分流电极,所述分流电极位于所述取向膜不与液晶分子相接触的一侧。
地址 100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号