显影装置和显影方法

摘要

本发明提供一种能够取得高生产率的显影装置和显影方法。该显影装置包括：气密的处理容器，其用于形成处理气氛；气氛气体供给部，其为了在搬入到上述处理容器内的基板的表面上使显影液结露而形成液膜，向该处理容器内供给显影液雾沫；干燥部，其为了使通过形成上述液膜而进行的显影停止而对基板进行干燥。因为能够使显影液与抗蚀剂的反应停止，所以能够与清洗组件所进行的清洗处理同时进行显影处理，从而能够取得高生产率。

主权项

一种显影装置，该显影装置是对已曝光的基板进行显影的显影装置，其特征在于，包括：气密的处理容器，其用于形成处理气氛；气氛气体供给部，其为了在搬入到上述处理容器内的基板的表面上形成显影液的液膜，向该处理容器内供给显影液雾沫；干燥部，其由用于使处理容器内的处理气氛向外部气氛开放的容器开闭机构构成，为了使通过形成上述液膜而进行的显影停止而对基板进行干燥。