发明名称 用于改进离子注入均匀性的离子束扫描系统和方法
摘要 本发明公开了离子注入系统及其扫描系统,其中提供了焦点调节装置以动态调节离子束的焦点性质,从而补偿扫描仪的至少一个时变焦点性质。用于向工件提供扫描离子束的方法,包括动态调节离子束的焦点性质,对离子束进行扫描以产生扫描离子束,以及将所述扫描离子束引导至工件。
申请公布号 CN101002294B 申请公布日期 2013.03.27
申请号 CN200580027218.5 申请日期 2005.06.06
申请人 艾克塞利斯技术公司 发明人 B·范德贝里;A·雷;K·温策尔
分类号 H01J37/317(2006.01)I 主分类号 H01J37/317(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 刘红;王忠忠
主权项 一种离子注入系统,包括:离子源,所述离子源可以操作以产生提取笔形离子束;质量分析仪,用于从所述离子源接收提取笔形离子束,并提供包括期望质量范围的离子的质量分析离子束;焦点调节装置,包括用于产生时变电场的电源,用于从所述质量分析仪沿着射束路径接收质量分析离子束,并沿着射束路径提供时变的焦点已调节笔形离子束;和扫描仪,包括用于产生时变电场的电源,用于从所述焦点调节装置接收焦点已调节笔形离子束,并沿着与所述射束路径垂直的扫描方向轴对该离子束来回扫描,以使该笔形离子束散布成带状离子束,以及将时变的扫描带状离子束引导至工件;其中时变的焦点调节装置动态调节焦点已调节笔形离子束的焦点性质,以补偿所述扫描仪的至少一个时变焦点性质。
地址 美国马萨诸塞州