| 发明名称 | 研磨垫调整器清洗装置及化学机械研磨装置 | ||
| 摘要 | 本实用新型公开了一种研磨垫调整器清洗装置及化学机械研磨装置，所述研磨垫调整器清洗装置包括一清洗杯和至少一个喷嘴，所述研磨垫调整器位于所述清洗杯上方，所述喷嘴固定于所述清洗杯的周壁，用于向所述清洗杯上方的研磨垫调整器喷洒清洗液。采用该化学机械研磨装置，能够有效延长研磨盘承载盘寿命并降低产品不良率。 | ||
| 申请公布号 | CN202825548U | 申请公布日期 | 2013.03.27 |
| 申请号 | CN201220521040.7 | 申请日期 | 2012.10.11 |
| 申请人 | 中芯国际集成电路制造（北京）有限公司 | 发明人 | 唐强 |
| 分类号 | B24B53/017(2012.01)I;B24B37/00(2012.01)I;H01L21/321(2006.01)I | 主分类号 | B24B53/017(2012.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 屈蘅;李时云 |
| 主权项 | 一种研磨垫调整器清洗装置，其特征在于，包括一清洗杯和至少一个喷嘴，所述研磨垫调整器位于所述清洗杯上方，所述喷嘴固定于所述清洗杯的周壁，用于向所述清洗杯上方的研磨垫调整器喷洒清洗液。 | ||
| 地址 | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区（亦庄）文昌大道18号 | ||