腔室装置和具有它的基片处理设备

摘要

本发明公开了腔室装置和具有它的基片处理设备。所述腔室装置包括：限定有工艺腔的腔室本体，腔室本体上设有监测口；在线监测机构；和沿远离监测口的第一方向彼此平行地设在工艺腔内的N层托盘，每层托盘用于承载沿该层托盘的周向间隔布置在该层托盘的表面上的基片，其中第1至第N-1层托盘中的每层托盘上设有至少一个孔以便在线监测机构能够通过所述监测口监测承载在所述N层托盘中的每一层托盘上的至少一个基片。根据本发明的腔室装置能够对每一层托盘上的基片的状态进行在线监测。

主权项

一种腔室装置，其特征在于，包括：腔室本体，所述腔室本体内限定有工艺腔，所述腔室本体上设有监测口；监测机构；和N层托盘，所述N层托盘沿远离所述监测口的第一方向彼此平行地设在所述工艺腔内，每层托盘用于承载沿该层托盘的周向间隔布置在该层托盘的表面上的基片，其中第1至第N‑1层托盘中的每层托盘上设有至少一个孔以便所述在线监测机构能够通过所述监测口监测承载在所述N层托盘中的每层托盘上的至少一个基片，其中N为大于等于2的整数。