光学物品、光学物品的制造方法以及电子设备

摘要

本发明提供光学物品、光学物品的制造方法以及电子设备。作为课题，提供防尘性能高的光学物品。防尘玻璃(10)在基板(1)上具有由多个层构成的无机薄膜(2)，其中，无机薄膜(2)层叠有多个氧化硅层(2A)和多个金属氧化物层(2B)，金属氧化物是包含锆、钽或钛中的任意一种的金属氧化物，在氧化硅层(2A)内具有低密度的氧化硅层和比该低密度的氧化硅层的密度高的高密度的氧化硅层，无机薄膜(2)的最表层(2S)是低密度的氧化硅层，无机薄膜(2)的最表层(2S)的表面粗糙度为0.55nm以上0.70nm以下。

主权项

一种光学物品，该光学物品的特征在于，该光学物品在基板上包含无机薄膜，所述无机薄膜是交替地层叠多个氧化硅层和多个金属氧化物层而构成的，所述金属氧化物包含锆、钽和钛中的任意一种，所述无机薄膜是最表层为氧化硅层的5层以上的多层膜，当设从所述最表层侧起朝向所述基板依次为第1层、第2层、第3层、第4层、第5层时，在所述金属氧化物层是氧化锆层的情况下，所述第1层与所述第3层的所述氧化硅层的密度ρ1满足2.00g/cm3≤ρ1≤2.20g/cm3，并且，所述第2层与所述第4层的所述金属氧化物层的密度ρ2满足4.8g/cm3≤ρ2≤5.4g/cm3；在所述金属氧化物层是氧化钽层的情况下，所述第1层与所述第3层的所述氧化硅层的密度ρ1满足2.00g/cm3≤ρ1≤2.15g/cm3，并且，所述第2层与所述第4层的所述金属氧化物层的密度ρ2满足7.7g/cm3≤ρ2≤8.0g/cm3；在所述金属氧化物层是氧化钛层的情况下，所述第1层与所述第3层的所述氧化硅层的密度ρ1满足2.00g/cm3≤ρ1≤2.15g/cm3，并且，所述第2层与所述第4层的所述金属氧化物层的密度ρ2满足4.50g/cm3≤ρ2≤4.75g/cm3，所述第5层的氧化硅层的密度比所述第1层和所述第3层的密度高，所述最表层的表面粗糙度Ra满足0.55nm≤Ra≤0.70nm，所述第1层的厚度比所述第5层的厚度小。