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发明名称
NEGATIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION FOR SILICON KOH ETCH WITHOUT USING SILICON NITRIDE HARDMASK
摘要
申请公布号
EP1932060(B1)
申请公布日期
2013.03.27
申请号
EP20060803089
申请日期
2006.09.07
申请人
BREWER SCIENCE, INC.
发明人
ZHONG, XING-FU;LI, CHENGHONG;MALHOTRA, JYOTI, K.
分类号
G03F7/004;G03F7/027;G03F7/075
主分类号
G03F7/004
代理机构
代理人
主权项
地址
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