| 发明名称 | 一种集成电路设计方法 | ||
| 摘要 | 一种集成电路(IC)设计方法，包括基于IC器件的IC设计布图和IC制造数据来提供IC布图轮廓；生成有效矩形布图来代表IC布图轮廓；以及利用有效矩形布图来仿真IC器件。 | ||
| 申请公布号 | CN101807219B | 申请公布日期 | 2013.03.27 |
| 申请号 | CN200910169436.2 | 申请日期 | 2009.09.09 |
| 申请人 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 发明人 | 郑英周;赖志明;欧宗桦;董易谕;赵孝蜀;吴旻鸿;侯永清;刘如淦;郑仪侃;辜耀进 |
| 分类号 | G06F17/50(2006.01)I | 主分类号 | G06F17/50(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京德恒律师事务所 11306 | 代理人 | 梁永 |
| 主权项 | 一种集成电路(IC)设计方法，包括：基于IC器件的IC设计布图和IC制造数据来提供IC布图轮廓；生成有效矩形布图来代表该IC布图轮廓；以及利用该有效矩形布图来仿真该IC器件；其中，该IC布图轮廓包括栅极轮廓和有源区轮廓重叠的区域，并且，该方法不是分隔特征，而是考虑栅极轮廓的整个区域并将不规则形状转变为具有等效栅极长度和宽度的规则形状；其中，有效矩形的生成包括：在该IC布图轮廓内部生成最大矩形，其中该最大矩形定义了一个宽度和一个长度；根据宽度方向上的该最大矩形和该IC布图轮廓之间的尺寸差异来得到对于该最大矩形的一个宽度校正。 | ||
| 地址 | 中国台湾新竹 | ||