反应气体供给装置

摘要

本实用新型涉及一种反应气体供给装置，与等离子体处理设备配合使用，反应气体供给装置控制通入反应腔室的反应气体流量，该供给装置包括：至少一个气体导入通道，与气体喷淋单元连接，反应气体自气体导入通道导入气体喷淋单元；至少一个调节阀，与气体导入通道配合使用，调节阀调节气体导入通道中反应气体的流量；其中，供给装置还包括一脉宽调制单元，脉宽调制单元发出至少一种脉宽信号控制调节阀调节导入气体喷淋单元的反应气体的流量。该装置实现了对气体导入通道中反应气体流量的精确控制，从而使反应腔室中反应气体分布处于一种可控状态，实现了对等离子体处理工艺的过程控制。其实施开销少，结构简单。

主权项

一种反应气体供给装置，与等离子体处理设备配合使用，所述等离子体处理设备至少包括反应腔室和气体喷淋单元，所述反应气体自所述气体喷淋单元导入所述反应腔室，所述反应气体供给装置控制通入所述反应腔室的反应气体流量，所述供给装置包括：至少一个气体导入通道，与所述气体喷淋单元连接，所述反应气体自所述气体导入通道导入所述气体喷淋单元；至少一个调节阀，与所述气体导入通道配合使用，所述调节阀调节所述气体导入通道中所述反应气体的流量；其特征在于，所述供给装置还包括一脉宽调制单元，所述脉宽调制单元发出至少一种脉宽信号控制所述调节阀调节导入所述气体喷淋单元的反应气体的流量。