| 摘要 |
1. Способ тиражирования образующей узор рельефной микроструктуры поверхности, включающий стадии:- формирования первого слоя (21), имеющего образующую узор рельефную микроструктуру поверхности, на втором слое (22), причем первый слой содержит первый материал, а второй слой содержит второй материал;- создания матрицы путем копирования микроструктуры первого слоя во второй слой с использованием по меньшей мере одной стадии сухого или мокрого травления;- отличающийся дополнительной стадией, на которой микроструктуру матрицы вводят в контакт с материалом копии так, чтобы микроструктура матрицы воспроизвелась в материале копии с профилем рельефа поверхности, обратным по сравнению с профилем рельефа поверхности матрицы.2. Способ по п.1, в котором на одной из стадий травления толщину первого слоя уменьшают до тех пор, пока не будет удален материал в нижних зонах (26) рельефной микроструктуры поверхности и не откроются части (27) нижележащего второго слоя (22).3. Способ по п.1, в котором глубина скопированной микроструктуры больше глубины исходной микроструктуры.4. Способ по п.1, в котором скопированная микроструктура имеет разную глубину на разных ее участках.5. Способ по п.1, в котором имеется по меньшей мере один участок узора, содержащий анизотропную микроструктуру.6. Способ по п.1, в котором узор содержит по меньшей мере один участок, на котором микроструктура является непериодической.7. Способ по п.1, в котором по меньшей мере на одном участке характеристическое отношение рельефа поверхности меньше 50.8. Способ по п.1, в котором по меньшей мере на одном участке коэффициент заполнения рельефа поверхности находится в диапазоне от |
