| 发明名称 | 投影光学系统以及图像投影设备 | ||
| 摘要 | 公开了一种投影光学系统，其包括第一光学系统和第二光学系统，该第一光学系统构造为形成与物体共轭的第一图像并具有光轴，该第二光学系统构造为投影与第一图像共轭的第二图像到要投影到其上的表面上，其中，该第一图像满足以下条件：Im×Tr≤1.70其中Im表示该第一图像在该第一光学系统的光轴方向上的长度，该Im被该第一光学系统的焦距标准化，并且Tr表示该投影光学系统的投射比。 | ||
| 申请公布号 | CN102998782A | 申请公布日期 | 2013.03.27 |
| 申请号 | CN201210448436.8 | 申请日期 | 2012.09.12 |
| 申请人 | 株式会社理光 | 发明人 | 高桥达也;藤田和弘;安部一成 |
| 分类号 | G02B17/08(2006.01)I;G02B27/18(2006.01)I;G03B21/28(2006.01)I;H04N5/74(2006.01)I | 主分类号 | G02B17/08(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 王冉 |
| 主权项 | 一种投影光学系统，包括：第一光学系统，该第一光学系统被构造为形成与物体共轭的第一图像并且具有光轴；第二光学系统，该第二光学系统被构造为投影与所述第一图像共轭的第二图像到要投影到其上的表面上，其中该第一图像满足以下条件：Im×Tr≤1.70其中Im表示所述第一图像在所述第一光学系统的光轴方向上的长度，所述Im被所述第一光学系统的焦距标准化；并且Tr表示所述投影光学系统的投射比。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||