发明名称 POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
摘要
申请公布号 EP1452919(B1) 申请公布日期 2013.03.27
申请号 EP20020788697 申请日期 2002.11.29
申请人 TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. 发明人 HADA, HIDEO;FUJIMURA, SATOSHI;IWASHITA, JUN
分类号 G03F7/039;C08F220/18;C08F220/28;H01L21/027 主分类号 G03F7/039
代理机构 代理人
主权项
地址
您可能感兴趣的专利