发明名称 |
外基区与集电区隔离的双极晶体管及其制备方法 |
摘要 |
本发明公开一种外基区与集电区隔离的双极晶体管及其制备方法,为解决现有产品基区-集电区结寄生电容过大的缺陷而设计。本发明外基区与集电区隔离的双极晶体管包括集电区、本征基区、隔离氧化层、外基区、发射区、以及侧墙。本征基区的边缘位于隔离氧化层的上方,外基区全部位于隔离氧化层的上方。外基区上表面与发射区上表面形成平整表面,外基区与发射区由侧墙隔离。本发明外基区与集电区隔离的双极晶体管有效地减小了基区-集电区结寄生电容,改善了器件的性能。本发明外基区与集电区隔离的双极晶体管制备方法工艺步骤简明,对设备等技术条件要求低,适于大规模生产加工。 |
申请公布号 |
CN103000678A |
申请公布日期 |
2013.03.27 |
申请号 |
CN201210536372.7 |
申请日期 |
2012.12.12 |
申请人 |
清华大学 |
发明人 |
王玉东;付军;崔杰;赵悦;刘志弘;张伟;吴正立;李高庆 |
分类号 |
H01L29/73(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/331(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/73(2006.01)I |
代理机构 |
北京中伟智信专利商标代理事务所 11325 |
代理人 |
张岱 |
主权项 |
一种外基区与集电区隔离的双极晶体管,其特征在于,所述晶体管包括集电区,设置在所述集电区上的本征基区和隔离氧化层,设置在所述隔离氧化层上的外基区,设置在所述本征基区上的发射区,以及设置在所述发射区侧面的侧墙;所述本征基区的边缘位于所述隔离氧化层的上方,所述外基区全部位于所述隔离氧化层的上方;所述外基区上表面与所述发射区上表面形成平整表面,所述外基区与所述发射区由所述侧墙隔离。 |
地址 |
100084 北京市海淀区清华园1号 |