发明名称 |
阵列基板与彩膜基板成盒对位的方法 |
摘要 |
本发明的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法包括:步骤一、设置多个基准点,多个基准点的连线在基准平面内形成一基准图形;步骤二、设置多个检测点,多个检测点的连线形成在第一基板上的第一图形;步骤三、在第二基板上设置多个检验点,检验点的连线形成在第二基板上的第二图形;步骤四、检测第一基板上的第一图形与基准图形是否重合;步骤五、检测第二基板上的第二图形向基准平面的垂直投影与第一图形是否重合;步骤六、进行对盒。本发明的阵列基板与彩膜基板成盒对位方法可以消除对盒工序中的对盒偏差,保证TFT-LCD产品质量;同时避免使用加大黑矩阵遮挡面积的方法,可以增大单位像素的开口率,同时,也可以避免对位偏差造成的漏光现象。 |
申请公布号 |
CN102998833A |
申请公布日期 |
2013.03.27 |
申请号 |
CN201210545967.9 |
申请日期 |
2012.12.14 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
发明人 |
吴海龙;陈维涛 |
分类号 |
G02F1/1333(2006.01)I |
主分类号 |
G02F1/1333(2006.01)I |
代理机构 |
北京银龙知识产权代理有限公司 11243 |
代理人 |
黄灿;吕品 |
主权项 |
一种阵列基板与彩膜基板成盒对位方法,其特征在于,包括:步骤一、设置多个基准点,所述多个基准点的连线在基准平面内形成一基准图形;步骤二、在第一基板上设置多个检测点,所述多个检测点的连线形成在第一基板上的第一图形,所述第一图形的形状与所述基准图形的形状一致,所述多个检测点在所述第一图形中的位置与所述多个基准点在所述基准图形中的位置一一对应;步骤三、在第二基板上设置多个检验点,所述检验点的连线形成在第二基板上的第二图形,所述第二图形的形状与所述基准图形的形状一致,所述多个检验点在所述第二图形中的位置与所述多个基准点在所述基准图形中的位置一一对应;步骤四、将所述第一基板上置于所述基准平面内,检测所述第一基板上的第一图形与所述基准图形是否重合,如果不重合,则调整第一基板的位置,直至所述第一图形与所述基准图形重合;步骤五、将所述第二基板置于所述基准平面的正上方,检测所述第二基板上的所述第二图形向所述基准平面的垂直投影与所述第一图形是否重合,如果不重合,则调整所述第二基板的位置,直至所述第二图形向所述基准平面的垂直投影与所述第一图形重合;步骤六、进行第一基板与第二基板的对盒。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |