用于大功率LED灯的高反射率纳米膜层及其镀膜方法

摘要

本发明公开了一种用于大功率LED灯的高反射率纳米膜层，包含Al2O3、Al和SiO2三种组成成分，且应用真空离子磁控溅镀技术镀在LED灯的光反射表面。还公开了制备这种高反射率纳米膜层的镀膜方法，依次包括等离子体表面改质处理、镀Al2O3层、镀Al层、镀SiO2层和膜质老化处理几个步骤。本发明制备的膜层具有高反射率、抗氧化性好的特点，镀膜过程一次性成膜，无需组装，可用于连续批量化的工业化生产，生产效率和产品良品率较高。

主权项

一种用于大功率LED灯的高反射率纳米膜层的镀膜方法，其特征在于包含如下步骤：步骤SI：将需镀膜的LED灯放入第一真空室(1)，并充入氧气；步骤S2：对LED灯的光反射表面进行等离子体表面改质处理；步骤S3：装有Al靶材的第二真空室(2)内放入需镀膜的LED灯，并充入氧气和氩气，进行真空离子磁控溅镀Al2O3层；步骤S4：装有Al靶材的第三真空室(3)内放入需镀膜的LED灯，并充入氩气，进行真空离子磁控溅镀Al层；步骤S5：装有Si靶材的第四真空室(4)内放入需镀膜的LED灯，并充入氧气和氩气，进行真空离子磁控溅镀SiO2层；步骤S6：用于膜质老化处理的第五真空室(5)内放入已镀膜的LED灯，并抽真空，通过若干次反复的快速降温和升温，对膜质进行老化处理，稳定膜质；步骤S7：破真空，镀膜工序完成，膜层厚0.1um；步骤S3和步骤S5中充入的氧气分别占在该步骤中充入气体总体积的5％～35％。