| 发明名称 | 美容装置 | ||
| 摘要 | 提供一种美容装置，能够抑制送风装置的大型化、并且实现所生成的离子的飞散距离的提高。在从离子发生装置(20)的上游侧进行送风装置(30)的送风、使利用该送风传播的离子经由送风通路(31a、31b、31c)从释放口(4a)释放到外部的美容装置(1)中，形成了离子发生装置(20)的下游侧的送风通路(31c)的通路面积朝向释放口变小的结构。 | ||
| 申请公布号 | CN101927219B | 申请公布日期 | 2013.03.27 |
| 申请号 | CN201010213227.6 | 申请日期 | 2010.06.22 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 松坂建志 |
| 分类号 | B05B5/16(2006.01)I;B05B5/025(2006.01)I;F24F6/02(2006.01)I | 主分类号 | B05B5/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 徐殿军 |
| 主权项 | 一种美容装置，具备生成离子的离子发生装置、和从上述离子发生装置的上游侧进行用来将生成的离子释放的送风的送风装置，使利用该送风传播的离子经由送风通路从释放口释放到外部，其特征在于，将上述离子发生装置、送风装置、送风通路及释放口一体地构成为离子释放单元，并且上述离子释放单元构成为能够在上下方向移动；在上述离子释放单元中，具备上述离子发生装置及送风装置并且一体地形成有上述送风通路的单元壳体、和具有上述释放口的喷嘴部件单独地形成；在上述单元壳体与上述喷嘴部件之间夹着密封部件，上述送风通路与上述释放口以密闭状态连接，该美容装置形成为，使上述离子发生装置下游侧的上述送风通路的通路面积朝向上述释放口变小。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||