发明名称 |
气体射流冲击冷却装置 |
摘要 |
本发明提出一种气体射流冲击冷却装置,用于冷却汞灯的阳极。汞灯包括阳极和椭球碗,阳极容置在椭球碗中。气体射流冲击冷去装置包括偶数个喷嘴,对称设置在椭球碗的上端面。喷嘴包括接入口和喷口。接入口连接冷却介质。喷口用于喷出冷却介质至阳极。本发明提出的气体射流冲击冷却装置,包括对称设置在汞灯上的喷嘴,能够对圆柱体形的阳极进行有效冷却,其成本低廉,冷却效率高,适于产业上的广泛利用。 |
申请公布号 |
CN103000486A |
申请公布日期 |
2013.03.27 |
申请号 |
CN201110266516.7 |
申请日期 |
2011.09.08 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
杨志斌;束剑平;张洪博;赵滨;江家玮 |
分类号 |
H01J61/52(2006.01)I |
主分类号 |
H01J61/52(2006.01)I |
代理机构 |
上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 |
代理人 |
屈蘅;李时云 |
主权项 |
一种气体射流冲击冷却装置,用于冷却汞灯的阳极,所述汞灯包括所述阳极和椭球碗,所述阳极容置在所述椭球碗中,其特征是,所述气体射流冲击冷去装置包括:偶数个喷嘴,对称设置在所述椭球碗的上端面,所述喷嘴包括:接入口,连接冷却介质;以及喷口,用于喷出所述冷却介质至所述阳极。 |
地址 |
201203 上海市浦东新区张东路1525号 |