发明名称 |
基于离子束抛光的光学元件表面清洗方法 |
摘要 |
本发明公开了一种基于离子束抛光的光学元件表面清洗方法,包括以下步骤:以经过单点金刚石车削或磁流变抛光后的光学元件作为加工对象,采用基于低能离子溅射原理的离子束抛光方法对该加工对象的表面进行加工,在加工过程中,控制离子束对光学元件表面进行均匀扫略,加工结束后完成对光学元件表面的清洗。本发明的表面清洗方法简单易行,对设备要求低,可降低光学表面元件表面粗糙度和去除光学元件表面杂质。 |
申请公布号 |
CN102990480A |
申请公布日期 |
2013.03.27 |
申请号 |
CN201210553986.6 |
申请日期 |
2012.12.19 |
申请人 |
中国人民解放军国防科学技术大学 |
发明人 |
戴一帆;解旭辉;袁征;周林;关朝亮;胡皓 |
分类号 |
B24B1/00(2006.01)I |
主分类号 |
B24B1/00(2006.01)I |
代理机构 |
湖南兆弘专利事务所 43008 |
代理人 |
赵洪;杨斌 |
主权项 |
一种基于离子束抛光的光学元件表面清洗方法,包括以下步骤:以经过单点金刚石车削或磁流变抛光后的光学元件作为加工对象,采用基于低能离子溅射原理的离子束抛光方法对该加工对象的表面进行加工,在加工过程中,控制离子束对光学元件表面进行均匀扫略,加工结束后完成对光学元件表面的清洗。 |
地址 |
410073 湖南省长沙市砚瓦池正街47号中国人民解放军国防科学技术大学三院机电系 |