浸没曝光设备以及浸没曝光方法

摘要

本发明公开浸没曝光设备和浸没曝光方法，用于在更换平板印刷机(10)中工件(208)期间，将浸没流体(212)保持在邻接投射透镜(16)的间隙。该设备和方法包括光学组件(16)和台组件(202)，前者作成为可以将图像投射到工件(208)，后者包括工件座(204)，该工件座作成为可以支承邻接光学组件(16)的工件(208)。配置外围系统(26)，向台组件(202)光学组件(16)和工件(208)之间形成的间隙输送浸没流体(212)，从该间隙中除去该浸没流体(212)。在完成工件(208)曝光后，更换系统(216)取下工件(208)，用第二工件替换该工件。配置浸没流体约束系统(214)，在取下第一工件(208)，用第二工件代替时，可以将浸没流体(212)保持在该间隙。

主权项

一种以光束曝光晶片的浸没曝光设备，包括：光学组件，所述光束透过所述光学组件照射到所述晶片上；晶片座，可支撑所述晶片并且相对所述光学组件来移动；以及垫板，可相对所述晶片座来移动并且可相对所述光学组件来定位在所述晶片座的位置上，以当所述晶片座以远离所述光学组件下方来移动时，实质上维持浸没流体在所述光学组件的下方的空间中，其中在所述晶片座以远离所述光学组件的下方来移动之前，调节所述晶片座和所述垫板的至少一个的垂直位置和/或倾斜度。