供应清洁气体至工艺腔室的方法和系统

摘要

本发明提出一种用以清洁工艺腔室的方法与设备。在一个实施例中，本发明提供一种工艺腔室，包括远程等离子源与工艺腔室，所述工艺腔室具有至少两个工艺区域。各工艺区域包括：基材支撑组件，设置在所述工艺区域中；气体散布系统，配置以提供气体到所述基材支撑组件上方的所述工艺区域内；以及气体通道，配置以提供气体到所述基材支撑组件下方的所述工艺区域内。第一气体导管是配置以将清洁试剂从所述远程等离子源经由所述气体散布组件流入各所述工艺区域，而第二气体导管是配置以将来自所述第一气体导管的所述清洁试剂的一部分转向到各所述工艺区域的所述气体通道。

主权项

一种工艺腔室，包含：远程等离子源；工艺腔室，具有至少两个工艺区域，各工艺区域包含：基材支撑组件，设置在所述工艺区域中；气体散布系统，配置以提供气体到所述基材支撑组件上方的所述工艺区域内；气体通道，配置以提供气体到所述基材支撑组件下方的所述工艺区域内；第一气体导管，配置以将清洁试剂从所述远程等离子源经由所述气体散布组件流入各所述工艺区域；以及第二气体导管，配置以将来自所述第一气体导管的所述清洁试剂的一部分转向到各所述工艺区域的所述气体通道；以及阀，所述阀控制所述第一气体导管与所述第二气体导管间的流量，所述阀包括：可移动的翼片，具有阻流板；至少一个磁铁，设置在所述翼片中；以及耦接机构，能操作以将所述翼片旋转在第一位置与第二位置之间，在所述第一位置时所述阻流板阻隔流经所述主体的流动，在所述第二位置时所述阻流板允许流经所述主体的流动。