氮化硅膜沉积设备

摘要

本实用新型提供了一种氮化硅膜沉积设备，该氮化硅膜沉积设备包括两个或两个以上的反应腔，以及连接在反应腔之间的缓冲腔，反应腔与缓冲腔之间形成真空连接。通过在多个反应腔内分步生成多层厚度和折射率不同的氮化硅膜，能够在保证钝化效果的前提下进一步降低硅片表面光反射率；多个反应腔互不干扰，能够保证沉积过程稳定运行；多个反应腔之间采用缓冲腔连接，能够保证整个沉积过程在真空条件下进行，从而避免了与外部空气接触引入杂质。

主权项

一种氮化硅膜沉积设备，其特征在于，包括两个或两个以上的反应腔，以及连接在所述反应腔之间的缓冲腔，所述反应腔与所述缓冲腔之间形成真空连接。