基板处理装置以及处理液赋予方法

摘要

本发明提供一种能够抑制从移动的喷嘴喷出的处理液的流量发生变动的技术。基板处理装置具有：基板保持部，其将基板保持为大致水平；主扫描机构，其具有沿着大致平行于基板的主扫描方向延伸的主扫描机构引导部、被主扫描机构引导部支撑且能够沿着主扫描方向移动的滑块；喷出部，其被滑块支撑且能够沿着主扫描方向移动，并用于向基板喷出涂敷液；挠性的涂敷液配管，其与喷出部连接且向喷出部引导涂敷液；可动配管支撑部，其支撑涂敷液配管的非端部部分，并且可动配管支撑部的朝向随着主扫描的反复进行引起的滑块周期性运动而周期性地变化。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，具有：基板保持部，其将基板保持为大致水平，主扫描机构，其具有沿着大致平行于所述基板的主扫描方向延伸的引导部、被所述引导部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动的移动部，喷出部，其被所述移动部支撑且能够沿着所述主扫描方向移动，并用于向所述基板喷出处理液，挠性的配管，其与所述喷出部连接，并用于向所述喷出部引导处理液，可动配管支撑部，其用于支撑所述配管的非端部部分，并且该可动配管支撑部的朝向随着所述移动部的周期性运动而周期性地变化，所述移动部的周期性运动是因主扫描的反复进行而引起的。