发明名称 |
阴极保护的垫调理器及使用方法 |
摘要 |
本发明提供一种用于化学机械平面化的阴极保护垫调理器(100),包括:金属基板(112)的研磨构件(110)、支撑载体(120),以及固定到所述支撑载体(120)的周边边缘(124)上的阳极(130)。阴极保护电路(140)被构造为如果与电解质溶液接触则提供从所述阳极(130)至所述研磨构件(110)的阴极保护电流。还公开了使用所述阴极保护垫调理器(100)的方法。 |
申请公布号 |
CN103003026A |
申请公布日期 |
2013.03.27 |
申请号 |
CN201180035149.8 |
申请日期 |
2011.06.24 |
申请人 |
3M创新有限公司 |
发明人 |
V·J·拉雷;林文杰 |
分类号 |
B24B53/00(2006.01)I;B24B53/017(2006.01)I;B24B53/12(2006.01)I |
主分类号 |
B24B53/00(2006.01)I |
代理机构 |
北京市金杜律师事务所 11256 |
代理人 |
陈文平 |
主权项 |
一种用于化学机械平面化的阴极保护垫调理器,包括:研磨构件,所述研磨构件包括具有研磨表面和与所述研磨表面相背对的背表面的金属基板,其中所述研磨表面包括固定到所述金属基板上的磨粒;支撑载体,所述支撑载体具有容纳表面以及与所述容纳表面相邻的周边边缘,其中所述容纳表面固定到所述研磨构件的所述背表面并且与之相邻;固定到所述周边边缘的阳极;和阴极保护电路,所述阴极保护电路被构造为如果与电解质溶液接触则提供从所述阳极至所述金属基板的阴极保护电流。 |
地址 |
美国明尼苏达州 |