| 发明名称 | 一种ZrVN纳米复合膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种ZrVN纳米复合膜及其制备方法，采用双靶射频反应溅射法以不锈钢为基底层制备得到，ZrVN纳米复合膜厚度为1～3微米，V≤25.8at.％时，ZrVN纳米复合膜的硬度≥29GPa，当V≥37.4at.％时，ZrVN纳米复合膜的硬度≥13.8GPa。研究了复合膜中生成的不同V的氧化物在不同温度下的摩擦磨损机理，其中700℃时，薄膜的摩擦系数仅为0.40。 | ||
| 申请公布号 | CN102994945A | 申请公布日期 | 2013.03.27 |
| 申请号 | CN201210469790.9 | 申请日期 | 2012.11.19 |
| 申请人 | 江苏科技大学 | 发明人 | 喻利花;许俊华;马冰洋 |
| 分类号 | C23C14/00(2006.01)I;C23C14/06(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;C23C14/34(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/00(2006.01)I |
| 代理机构 | 南京经纬专利商标代理有限公司 32200 | 代理人 | 楼高潮 |
| 主权项 | 一种ZrVN纳米复合膜，采用真空双靶射频反应溅射法以不锈钢为基片制备得到，其特征在于，采用Zr和V靶进行真空双靶射频反应溅射沉积Zr和V，同时通入Ar和N2，反应得到ZrVN纳米复合膜；ZrVN纳米复合膜厚度为1～3微米，ZrVN复合膜呈fcc结构，ZrVN复合膜为沿111面择优生长，V≤25.8at.％时，ZrVN纳米复合膜的硬度≥29GPa，当44.4at.％≥V≥37.4at.％时，ZrVN纳米复合膜的硬度在18.5GPa～29GPa。 | ||
| 地址 | 212003 江苏省镇江市梦溪路2号 | ||