发明名称 配位化合物以及含有其的光记录介质
摘要 本发明提供具有优良的耐湿热性等、且用于光记录介质的配位化合物,其由下述式(I)所示的化合物、金属、和选自由通过在胺上加上一个以上质子而形成的离子、铵离子以及季铵离子组成的组中的一种构成,式(I)中,R<sup>1</sup>表示可具有取代基的烷基等,R<sup>2</sup>表示氰基等,R<sup>3</sup>表示可具有取代基的烷基等,R<sup>4</sup>表示氢原子等,R<sup>5</sup>表示式(III)等,式(III)中,环A表示可具有取代基的杂环,该杂环选自嘧啶环、四唑环等。<img file="DDA00002733785900011.GIF" wi="853" he="807" />
申请公布号 CN103003243A 申请公布日期 2013.03.27
申请号 CN201180034670.X 申请日期 2011.07.12
申请人 KH新化株式会社 发明人 泽田贵弘;折见崇行;冲村尚志;宫崎常昭;森山聪
分类号 C07D213/85(2006.01)I;C07D401/12(2006.01)I;C07D413/12(2006.01)I;C07D413/14(2006.01)I;C09B55/00(2006.01)I;C09B57/10(2006.01)I;G11B7/244(2006.01)I 主分类号 C07D213/85(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 金龙河;穆德骏
主权项 1.一种配位化合物,其由式(I)所示的化合物、金属、和选自由通过在胺上加上一个以上质子而形成的离子、铵离子以及季铵离子组成的组中的一种构成,<img file="FDA00002733785700011.GIF" wi="867" he="476" />式中,R<sup>1</sup>以及R<sup>4</sup>相同或不同,表示氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,R<sup>2</sup>表示氢原子、羟基、卤原子、硝基、氰基、可具有取代基的氨基、可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的烷氧基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,R<sup>3</sup>表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,R<sup>5</sup>表示式(II)或式(III),<img file="FDA00002733785700012.GIF" wi="489" he="251" />式中,R<sup>6</sup>表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的烯基、可具有取代基的芳烷基、可具有取代基的芳基、可具有取代基的脂环式烃基或可具有取代基的杂环基,<img file="FDA00002733785700021.GIF" wi="598" he="307" />式中,环A表示可具有取代基的杂环,该杂环选自由嘧啶环、四唑环、三唑环、咪唑环、苯并咪唑环、噻唑环、苯并噻唑环、<img file="FDA00002733785700022.GIF" wi="56" he="58" />唑环、苯并<img file="FDA00002733785700023.GIF" wi="56" he="58" />唑环、吡啶环、哒嗪环、酞嗪环以及喹唑啉环组成的组。
地址 日本东京都