发明名称 |
用于动态控制的阶式旋流器 |
摘要 |
本申请描述了一种用于将介质喷射到涡轮中的旋流设备(100)。该旋流设备(100)包括中心轴线(106)、在沿中心轴线(106)的轴向方向上的中心通道(107)和外周界(108)。旋流设备(100)还包括第一管道(101)和第二管道(102)。第一管道(101)和第二管道(102)适于将介质从外周界(108)周围区域引导至中心通道(107)。第一管道(101)包括第一基础区域,其限定了垂直于中心轴线(106)的第一平面。第二管道(102)包括第二基础区域,其限定了垂直于中心轴线(106)的第二平面。第一管道(101)包括沿轴向方向的第一深度(d1),第二管道(102)包括沿轴向方向的第二深度(d2)。第一深度(d1)和第二深度(d2)不同。 |
申请公布号 |
CN102165262B |
申请公布日期 |
2013.03.27 |
申请号 |
CN200980137770.8 |
申请日期 |
2009.08.05 |
申请人 |
西门子公司 |
发明人 |
P.哈伯德 |
分类号 |
F23R3/14(2006.01)I;F23R3/28(2006.01)I |
主分类号 |
F23R3/14(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
薛峰 |
主权项 |
一种用于将介质喷射到涡轮中的旋流设备,其中,所述旋流设备(100)包括中心轴线(106)、在沿着所述中心轴线(106)的轴向方向上的中心通道(107)以及外周界(108),所述旋流设备(100)进一步包括:具有面表面的基础板,该面表面中铣有凹槽,用于形成第一管道(101)和第二管道(102);其中,所述第一管道(101)和所述第二管道(102)适于将所述介质从所述外周界(108)周围的区域引导至所述中心通道(107);其中,所述第一管道(101)包括第一基础区域,该第一基础区域限定了垂直于所述中心轴线(106)的第一平面;其中,所述第二管道(102)包括第二基础区域,该第二基础区域限定了垂直于所述中心轴线(106)的第二平面;其中,所述第一管道(101)包括沿所述轴向方向的第一深度(d1),所述第二管道(102)包括沿所述轴向方向的第二深度(d2);其中,所述第一深度(d1)和所述第二深度(d2)彼此不同;以及其中所述第一深度(d1)和所述第二深度(d2)由所述基础板的不同厚度的材料提供。 |
地址 |
德国慕尼黑 |