发明名称 |
光束均化器和激光照射装置 |
摘要 |
本发明涉及光束均化器和激光照射装置。由于光学元件特性的缘故,光学元件在光学系统中的设置是受限的,所以在设计用于形成预定的激光束的光学系统中存在困难。本发明的目的是为了设计具有所需功能的光学系统,该光学系统不受设置光学元件的限制的影响。因此,将离轴柱面透镜阵列用作作用在光束长边方向上的柱面透镜阵列。 |
申请公布号 |
CN101866024B |
申请公布日期 |
2013.03.27 |
申请号 |
CN201010230937.X |
申请日期 |
2005.03.24 |
申请人 |
株式会社半导体能源研究所 |
发明人 |
田中幸一郎;大石洋正 |
分类号 |
G02B3/00(2006.01)I;G02B27/09(2006.01)I |
主分类号 |
G02B3/00(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
徐予红 |
主权项 |
一种透镜阵列,包括:多个离轴柱面透镜,所述多个离轴柱面透镜被配置成在长边方向上划分激光束的光斑,其中离轴柱面透镜的每一个具有位于所述离轴柱面透镜的每一个的弯曲部分的母线,所述离轴柱面透镜的每一个的弯曲部分距离所述离轴柱面透镜的每一个的平面部分最远,其中所述离轴柱面透镜的每一个沿母线是不对称的,并且其中所述离轴柱面透镜的每一个的母线和中心线之间的位移量从透镜阵列的中心朝向透镜阵列的相对两端增加。 |
地址 |
日本神奈川县厚木市 |