一种CMOS电路结构、其制备方法及显示装置

摘要

本发明公开了一种CMOS电路结构、其制备方法及显示装置，在CMOS电路结构中PMOS区域为LTPS TFT结构，即使用P型掺杂多晶硅材料制备PMOS半导体层，NMOS区域为Oxide TFT结构，即使用氧化物材料制备NMOS半导体层，在NMOS区域使用氧化物材料代替现有的多晶硅材料制备NMOS半导体层，能够省去采用TLPS工艺时对NMOS区域的三次掺杂工艺，可以简化CMOS电路结构的制作流程，降低生产成本。并且，由于采用氧化物材料制作NMOS区域的NMOS半导体层，仅需要对PMOS区域的PMOS半导体层进行结晶化，也能延长激光管的使用寿命，降低生产成本。

主权项

一种CMOS电路结构，具有PMOS区域和NMOS区域，其特征在于，包括：依次位于衬底基板之上的PMOS半导体层、栅绝缘层、PMOS栅极和NMOS栅极、第一层间介质层、NMOS半导体层、第二层间介质层以及PMOS源漏极和NMOS源漏极，其中，所述PMOS半导体层、PMOS栅极和PMOS源漏极位于PMOS区域内；所述PMOS半导体层由P型掺杂多晶硅材料制成；所述NMOS半导体层、NMOS栅极和NMOS源漏极位于NMOS区域内；所述NMOS半导体层由氧化物材料制成。